在现代工业制造中，薄膜技术广泛应用于半导体、光学器件等领域，薄膜厚度直接影响产品性能。实时监控膜厚可以避免过度沉积，节省成本并提高产品竞争力。石英晶体微量天平（QCM）是最常用的膜厚检测器，基于压电效应和频率变化原理，能够精确测量膜厚。650MH高真空磁控溅射镀膜仪和900M低真空镀膜仪分别适用于高精度和一般精度的镀膜需求，均配备先进的膜厚检测器，确保薄膜厚度的精确控制。
膜厚检测器在镀膜设备中扮演着不可或缺的角色，能够确保薄膜厚度的精确控制，提高产品质量和生产效率。石英晶体微量天平（QCM）作为主流的膜厚检测技术，利用了石英晶体的压电效应和频率变化原理，提供了高精度的膜厚测量。
我们的650MH高真空磁控溅射镀膜仪和900M低真空镀膜仪，分别适用于高精度和一般精度的镀膜需求，均配备了先进的膜厚检测器，满足不同客户的多样化需求。如需了解更多信息，欢迎访问我们的网站或联系我们的技术团队。
