在高真空溅射镀膜设备中，控制气体流量对工艺稳定性至关重要，常见气体流量控制设备有电磁流量阀和气体质量流量控制器。电磁流量阀基于电磁铁控制阀门开关，可通过PWM简单调节流量但精度低，其结构简单、成本低、适用于快速开关控制、维护方便且寿命长，但不能精确调节流量、稳定性差、受环境影响大，适用于简单开/关控制的气路系统、预抽真空粗略控制气体进入等对流量精度要求不高的场景。气体质量流量控制器通过热式流量传感器或压差测量技术结合电子反馈控制实现对气体质量流量精准调节，不受温度压力变化影响，精度高、能稳定控制流量、适用于多种工艺气体、受环境影响小，但成本高、需定期校准，适用于高真空溅射镀膜、半导体制造、气体分析仪器等对气体流量要求严格的场景。选择时，若只需简单开/关控制、预算有限且对流量精度要求不高，可选择电磁流量阀；若需精确控制气体流量、适用于高真空镀膜工艺，则应选气体质量流量控制器，在高真空溅射镀膜设备中，气体质量流量控制器有时必不可少，选购或升级镀膜设备可咨询VPI技术工程师获取合适方案