磁控溅射是等离子体辅助的物理气相沉积技术，适合高熔点材料镀膜，已成为光电子学和材料科学领域关键制备手段。Vision Precision Instruments公司的SD - 650系列高真空磁控溅射镀膜仪面向科研与小批量试制，某大学于2025年引进SD - 650MH型号用于光电子器件和新材料薄膜研究。SD - 650MH是紧凑型高真空磁控溅射系统，由多个模块组成，体积小巧，具备高真空水平和精密溅射控制能力，电控设计先进，还可选配高精度膜厚监控仪。科研人员用其对二氧化硅绝缘靶材进行多组实验，结果表明可通过调节射频功率和工作气压有效控制沉积速率。该系统在光电子器件、功能薄膜材料、表面改性等方向应用前景广阔，且具有稳定可靠、高度自动化与易用、模块化可拓展、广泛适用等特点，证明了其在科研领域的实用价值，将在科研院所和创新企业中发挥重要作用。