电子显微镜类型与放大倍数

不同类型的电子显微镜适用于不同的放大倍数范围和应用场景，如下：

• 扫描电子显微镜（SEM）
       SEM适用于中等至高放大倍率的成像，通常可以达到0倍到500,000倍的放大倍数。它用于观察样品的表面结构和形态，尤其适合较大样品和表面特征的分析。

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• 场发射扫描电子显微镜（FESEM）
       FESEM是一种高分辨率的扫描电子显微镜，适用于放大倍率从500,000倍到2,000,000倍。FESEM采用场发射电子源，能够提供更细腻的表面细节和更高的分辨率，特别适合观察纳米级别的细节。

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• 透射电子显微镜（TEM）
       TEM适用于高分辨率的薄膜和材料内部结构分析，放大倍数通常在100,000倍到10,000,000倍之间。TEM能够提供非常高的分辨率，适用于纳米级别的细节分析。

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VPI的溅射镀膜仪：为高分辨率电子显微镜成像提供支持

在电子显微镜样品的制备过程中，选择合适的溅射镀膜系统非常重要。VPI的SD-900M磁控溅射镀膜仪和SD-650MH高真空磁控溅射镀膜仪能够提供高质量的薄膜涂层，确保电子显微镜下的成像效果。

• SD-900M磁控溅射镀膜仪：此设备适用于快速沉积金、银、铂、钯靶的导电涂层溅射，能够满足SEM和FESEM样品的样品制备需求，提供均匀的薄膜，确保高分辨率图像。

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• SD-650MH高真空磁控溅射镀膜仪：该系统适合在高真空环境下进行精细的涂层沉积，能够提供更高质量的薄膜，非常适合用于需要高纯度和均匀涂层的样品，尤其是在TEM分析、材料科学、半导体、生物化学、电池研究中具有优势。

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合适的涂层材料和溅射镀膜技术选择对于电子显微镜成像至关重要。金、铂、钯等材料因其优异的电导性和适合高分辨率成像的特性，广泛用于电子显微镜样品的准备。VPI的SD-900M磁控溅射镀膜仪和SD-650MH高真空磁控溅射镀膜仪提供了高质量的涂层解决方案，确保您的样品准备符合不同电子显微镜分析的需求，并提供最佳的成像效果。