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高真空磁控溅射镀钛膜技术文案(铜工件表面镀3μm钛膜工艺优化版)
来源: | 作者:VPI_LXJ | 发布时间: 2025-08-10 | 110 次浏览 | 分享到:
为提升铜基部件在严苛环境下的耐久性,常需在其表面沉积一层“防护”薄膜。本次在和用户研究的过程中,利用SD-650MH型高真空磁控溅射镀膜设备,在铜基底表面沉积3μm厚的纯钛薄膜,以显著提高铜件的耐腐蚀性能和膜-基结合力。

值得一提的是,SD-650MH设备兼容溅射多种金属或合金薄膜,因此除钛膜外,还可用于制备其它功能薄膜以满足不同行业需求。例如在新材料研究中沉积功能涂层、在光学元件上镀膜以提升性能等。其灵活性和高性能使之成为材料科学和工程领域强有力的工具。

 

借助SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机的先进控制功能,我们成功在铜基底上沉积出了高质量的钛薄膜。该膜层显著提升了铜件的耐腐蚀和机械性能,并通过严格的测试验证了膜厚精度和附着力。动态真空反馈、直流稳定溅射以及过程监控等技术的结合,是实现这一成果的关键。在半导体制造、电池材料、防腐工程等众多领域,此项镀钛膜工艺都具有广阔的应用前景。此次案例不仅展示了设备的卓越能力,也为相关工艺开发提供了宝贵经验,表明通过优化工艺参数和充分发挥设备优势,可以高效制备出满足苛刻要求的新功能薄膜