培训完成并试镀成功后，VPI协同用户对整机进行了最终验收。双方根据合同指标逐项对照检查，确认真空度、沉积速率、膜厚均匀性等均符合要求。验收合格后，设备正式交付用户投入使用。至此，从最初沟通到正式运行的全过程在短时间内顺利完成，黑龙江科大材料实验室成功拥有了一套功能强大的磁控溅射薄膜沉积平台。

本次交付的SD-650MH高真空双靶磁控溅射镀膜系统是VPI面向高校科研推出的一款旗舰产品。该系统专为多材料薄膜制备而设计，兼具高真空环境和多功能溅射能力，能够满足材料科学领域多样化的研发需求。仪器由真空腔室、磁控溅射靶源（双靶位）、旋转样品台、抽真空泵组、真空测量仪表、溅射电源和智能控制系统等部分组成。通过模块化集成设计，SD-650MH既保证了系统的稳定性，又方便日常操作和维护。

该设备的主要特点：

高真空：配备机械泵+分子泵真空系统，可将腔体抽至10⁻⁵ Pa量级的极高真空，提供洁净稳定的镀膜环境，有效提升薄膜质量。

双靶溅射：配置两个直径50 mm的磁控溅射靶位，可安装不同材料的靶材，实现无需破真空连续沉积多层薄膜的工艺，大幅提高实验效率。

直流/射频兼容：同时配备可独立控制的直流和射频溅射电源，直流溅射功率可达1000 W，射频溅射功率可达300 W。该配置使设备能兼容导电金属、半导体以及绝缘陶瓷等各类靶材，充分满足导体与非导体薄膜沉积需求。

均匀沉积：内置可旋转样品台，支持样品加热和旋转，从工艺上提高薄膜厚度均匀性，并有助于靶材的均匀消耗，确保大面积基片上获得一致膜厚。对于要求高均匀性的光学膜或功能涂层，设备能够提供出色的膜厚一致性。

精准控制：等离子体放电过程稳定可控，沉积速率精确可调，膜厚控制精度高。用户可以通过控制软件精确设定溅射时间和功率，实现对薄膜厚度的精密控制，保证实验结果的可重复性。

友好操作：采用智能化的触摸屏控制界面与自动化控制程序，界面信息直观清晰，各项参数设置简便。设备配有多重安全联锁和状态提示功能，新用户也能轻松上手，在保障安全的同时提高了操作效率。

实验室负责人反馈，VPI工程师提供的培训高效细致，通过现场实操和指导，帮助团队迅速建立了对新设备的操作信心。如今，师生们已经能够独立使用该系统开展日常的教学实验和基础研究工作，他们对设备的各方面表现都非常满意，并对VPI团队的专业服务给予了由衷肯定。

设备验收交付并投入使用后，VPI依然持续为用户保驾护航。公司承诺提供完善的售后服务，包括远程技术答疑和指导、定期设备巡检和保养，以及根据用户需求进行软件升级和功能扩展等支持。黑龙江科大实验室在使用中遇到任何技术问题，都可以通过线上或电话及时联系