近日，VPI为大湾区大学物质科学学院A420“偏振成像与激子动力学”实验室完成一套SD-650MH双靶双射频高真空磁控溅射镀膜仪的安装、调试与现场培训。设备已顺利进驻实验室，将面向光电材料、半导体薄膜、二维材料器件、介质薄膜及功能薄膜样品制备等研究方向，提供稳定、灵活、可重复的PVD薄膜沉积平台。

从到货开箱、设备就位，到真空系统连接、气路与水冷配套、双射频电源调试及操作培训，VPI工程团队围绕实验室实际使用需求完成了完整交付。该系统采用紧凑型桌面式平台布局，集成高真空腔体、双靶位溅射结构、双RF电源、流量控制、触控操作界面及配套冷却单元，适合高校课题组在有限实验空间内开展高质量薄膜制备工作。

本次交付的SD-650MH双靶双射频配置，特别适合科研场景中对材料体系切换、薄膜结构设计和工艺参数探索有较高要求的应用。双靶位设计可支持两种不同靶材的独立沉积，为多层膜、复合膜、界面调控及材料对比实验提供便利；双射频电源配置则进一步增强了对绝缘材料、介质材料、氧化物、氮化物及半导体材料的溅射适应性。对于偏振成像、激子动力学、光电响应和低维材料器件研究而言，稳定可控的薄膜制备能力，是从材料设计走向器件验证的重要基础。

VPI高真空磁控溅射镀膜系统面向材料科学与样品制备应用开发，可用于金属、陶瓷、半导体、绝缘体等多类薄膜材料制备。高真空环境有助于提升沉积过程的稳定性，射频/直流等多种电源方案则为不同导电特性的靶材和样品体系提供更灵活的工艺选择。VPI的 SD-650MH系列可支持单靶、双靶或多靶配置，并可用于半导体电极、互连层、ITO导电膜及先进光学薄膜等研究场景。

VPI始终关注高校与科研院所对“小型化、高真空、易操作、可扩展”薄膜制备平台的真实需求。此次SD-650MH双靶双射频高真空溅射镀膜仪在大湾区大学的落地，不仅体现了VPI在科研级镀膜设备领域的工程交付能力，也进一步展示了国产精密仪器在材料科学、半导体与光电研究平台建设中的应用价值。

未来，VPI将继续围绕材料科学、扫描电镜样品制备、功能薄膜沉积和真空镀膜应用，为高校、科研机构与产业研发实验室提供稳定可靠的设备方案、工艺支持与本地化服务。