带电以后，离 子可被加速、聚集或被电场控制。
他们较高的质量能诱导溅射效应的发生。
加速电压使离子在接地点加速，加速电压越 高，离子移动速度越快 2.1仪器 基本的单波束仪器由液态金属离子源、一个离子柱、样品载台、真空腔组成。
典型的离子束显微镜包括液态金属离子源及离子引出极、预聚焦极、聚焦极所用的高 压电源、电对中、消像散电子透镜、扫描线圈、二次粒子检测器、可移动的样品基座、真空 系统、抗振动和磁场的装置、电路控制板和电脑等硬件设备。
2.2离子束剖面与直径 对于离子束剖面以及离子强度分布的分析是一个基本的条件。
离子束剖面通常被看作是圆截面上的高斯分布。
离子强度分布是高斯分布的远程拖延 并满足如下方程： 其中，I=离子束总强度， ，J（x，y）=点（x，y）处的离子流量密度。
2.3溅射原理 FIB可以用于直接和无掩模的图案衬底制作上。
衬底的材料可以是硅、钨、钢或者任何 其他的晶体材料。
被质子轰击和被溅射的离子分别称作初级和次级离子。
在逐行扫描的过程 中，离子束停留在一个特定的点上并持续一段时间，然后移至下一个像素点。
两个像素点之 间的距离称作“像素距离” ，当一行中的所有位点都被扫描完成之后，离子束将移动至下一 行。
当整个溅射区域都被扫描完成以后， 离子束将重新开始扫描直到它用完所的离子剂 量。
外加电场于液态金属离子源，可使液态镓形成细小尖端，再加上负电场牵引尖端的镓， 而导出镓离子束。
在一般工作电压下，尖端电流密度约为10-SMem： ，以电透镜聚焦，经过 可变孔径光阑，决定离子束的大小，再经过二次聚焦以很小的束斑轰击样品表面，利用物理 碰撞来达到切割的目的，离子束到达样品表面的束斑直径可达到7纳米。
从表面逸出的各种 1 粒子来自不同的物理过程，带有丰富的表面信息。
比较重要的有以下几种：○散射离子，在 表面或表层弹性散射或非弹性散射的入射离子， 它们的能量分布和角分布反映了表面原子的 2 信息；○二次离子，从表面溅射出的离子中，有一部分是以正负离子的形式出现的，它们来 3 自固体表面，对它们的能量和质量进行分析，可以直接得到表面组分的信息；○二次电子， 发射的电子可能来自表面，也可能来自比较深层。
如果入射离子在表面发生中和，则可产生 电子发射，但在表面下层是固体原子受激或电离时，也会有电子放出，这些电子都带有表面 -4-
聚焦离子束（FIB）溅射 4 的信息；○x射线及光发射，可能来自表面及表层，各种退激发及离子中性化过程都可以导 致光发射，离子诱导产生的光发射常常带有表面化学成分及化学态的信息。