电池革命:VPI高真空磁控溅射系列镀膜仪为新能源材料增添动力
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作者:VPI_LXJ
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发布时间: 2025-03-31
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近年来新能源技术蓬勃发展,新型电池材料研发至关重要,高质量薄膜电极和功能镀膜涂层可提升电池性能,磁控溅射等高真空镀膜技术成为新能源材料制备利器。VPI推出的SD - 650系列高真空磁控溅射镀膜仪为新能源材料研发注入动力,其技术特点包括超高真空与高效抽真空系统、单靶/双靶及多靶磁控溅射源、多种溅射功率供应、精密真空与气路控制、先进控制界面与安全保障、镀膜均匀性与薄膜质量好、紧凑设计与易用性等。该镀膜仪在新能源电池材料制备中有独特优势,可用于薄膜电极、电解质/界面功能层、导电薄膜与集流体改性制备,广泛适用于新能源领域前沿研究。目前全国数十家高校和科研机构使用该系列设备,VPI还与企业合作,其SD - 650系列助力新能源电池材料研发和产业化,推动新能源技术进步变革,VPI将持续创新与各界共创能源技术未来
最近几年,锂离子电池、全固态电池、钠离子电池等新能源技术蓬勃发展,引发了一场“电池革命”。要实现更高的能量密度、更长的寿命和更安全的性能,新型电池材料的研发至关重要。其中,高质量的薄膜电极和功能镀膜涂层在提升电池性能方面发挥着关键作用。磁控溅射等高真空镀膜技术因能够精确制备致密、纯净的功能薄膜,正日益成为新能源材料制备领域的利器。
作为国内专注真空镀膜和材料科学设备的高新技术企业,VPI推出的SD-650系列高真空磁控溅射镀膜仪,正在为新能源材料研发注入强劲动力。

案例:东北某大学 复合材料研究方向
SD-650系列镀膜仪的技术特点
SD-650系列高真空磁控溅射设备融合了VPI多年来在镀膜技术上的创新成果,其主要技术特点包括:
超高真空与高效抽真空系统: 数分钟内即可将真空度抽至10^-4 Pa量级,极限真空可达5×10^-5 Pa。高真空环境确保沉积过程纯净,减少杂质干扰,制备高质量薄膜。
单靶/双靶及多靶磁控溅射源: 支持安装两个或多个磁控溅射靶位,可在一次真空中连续溅射不同材料,实现多层复合膜制备。
多种溅射功率供应(直流/DC + 射频/RF): 直流溅射适用于导电材料,射频溅射适用于绝缘材料,极大拓宽了可溅射靶材范围。
精密真空与气路控制: 内置复合真空计实时监测真空度,气路配有精密阀门控制工作气压,确保溅射沉积过程的稳定与可重复性。
先进控制界面与安全保障: 触摸屏全流程参数设定简便易操作,具备水冷循环冷却装置及过压泄放保护,安全可靠。
镀膜均匀性与薄膜质量: 采用环形磁场磁控溅射技术,使镀膜区域均匀致密,附着力强,且基片温升低,尤其适合热敏材料。
紧凑设计与易用性: 结构紧凑易于安放,操作维护简单,适合科研院所实验室快速上手。

案例:上海某985大学 材料研究方向
SD-650系列镀膜仪在新能源电池材料制备中具备独特优势:
薄膜电极制备: 能够制备厚度精准控制、致密均匀的薄膜电极,显著提高电池的循环稳定性与倍率性能。
电解质/界面功能层制备: 可在电极界面制备致密的保护层,抑制副反应,提高电池寿命与安全性,尤其适用于锂金属电池与全固态电池。
导电薄膜与集流体改性: 在电池电极与集流体表面制备高性能导电层,降低界面电阻,提升电池整体性能。
SD-650系列镀膜仪广泛适用于新能源领域前沿研究: