展示了该实验室利用SD-900M镀膜并搭配FlexSEM 1000 II电镜对电池材料进行观察的情景：左侧为正在工作的SD-900M镀膜仪，其前面板上集成的真空表和电流表实时显示镀膜状态；右侧显示的是SEM获取的微观形貌图像。从图中可以看到，经过金膜导电处理的样品在扫描电镜下呈现出清晰的细节：颗粒表面的微纳结构棱角分明，颗粒之间的界面也纤毫毕现，未见充电造成的亮斑或噪点。在15 kV加速电压、15,000倍放大倍率条件下，研究人员成功获得了高分辨的电极材料表面形貌图。这种成像质量在未镀膜的情况下几乎难以达到，而SD-900M所提供的均匀导电镀层有效地消除了电荷干扰，确保了电镜的高倍率下成像依然稳定、清晰。可以说，该实验室通过SD-900M与先进SEM的结合，实现了对电池关键材料从制备到观察的无缝衔接，优化科研分析流程。

在科研用户群体中，VPI的磁控溅射镀膜仪系列凭借出色性能建立了权威品牌形象，国内大约30%的高校实验室和科研机构都将VPI的产品作为扫描电镜制样的首选设备。实际使用过SD-900M的用户反馈表明，该设备镀膜效果均匀，长期运行稳定性高，对各种材料样品和不同型号电镜的适配性强，且操作简单易上手，能够满足从本科教学实验到高端科研开发的不同应用需求。不少业内专家在评价中也常提及这些优点，例如赞扬其镀膜均匀性和重现性，使得不同批次样品的处理结果一致可靠；高度的运行稳定性确保设备在连续大量制样情况下仍保持性能稳健；对样品尺寸和材质的良好兼容性使其成为通用型工具；简洁直观的操作界面则降低了培训成本。凭借用户口口相传的良好口碑，VPI镀膜仪已经成为真空镀膜与电镜联用领域的知名品牌代表之一。

设备概览

作为Vision Precision Instruments（VPI）旗下的明星产品，SD-900M磁控溅射镀膜仪专为电镜样品镀膜应用而设计，凭借出色的技术参数和人性化设计在众多同类设备中脱颖而出。以下是SD-900M在性能与操作上的几大专业优势：

• 高效磁控溅射： 采用磁控阴极溅射技术，高密度等离子体在低真空下即可稳定产生，溅射电流可达100 mA，能够快速均匀地镀覆样品表面。这种方式产生的等离子体热量低，大幅减少了对热敏感样品的损伤风险，确保镀膜过程安全可靠。

• 快速真空获取： SD-900M配备了高效的油旋片真空泵，抽速约8–9.6 m³/h（50 Hz/60 Hz）。在合适真空泵配置下，仪器可以在<5分钟内将真空度抽至约2 Pa（2×10⁻² mbar）的工作压力。这种迅捷的抽真空能力意味着样品可以更快地得到镀膜处理，提高实验效率。

• 均匀精细镀层： SD-900M能够在样品表面沉积出均匀致密的金属薄膜，有效避免传统手工方法可能出现的镀层不均问题。实测结果表明，该设备溅射的金膜粒径仅约20–50 nm，且不会改变样品原有的细微结构（镀膜后样品形貌无明显变化）。薄而均匀的导电膜既保证了SEM成像所需的导电性，又不遮蔽样品的纳微观细节，使得成像清晰锐利。

• 操作简便集成度高： SD-900M采用一体化设计，包含主机和真空泵等必要组件（提供水冷机作为可选配置），到货即可安装使用，无需繁琐组装调试。设备体积小巧（整机尺寸约360 × 300 × 380 mm，重量20 kg），占用空间有限，可方便地放置于实验室台面。标准单相电源供电（220 V/50 Hz），能耗低于1 kW，普通实验室即可满足其使用条件。操作界面友好，支持基于时间或电流的自动控制模式，使初学者也能在短时间内掌握使用方法。同时，该仪器采用透明石英玻璃真空腔体（直径150 mm，高120 mm），耐磨防刮，便于科研人员在镀膜过程中实时观察等离子体放电状态，监控实验进程。

• 适配性与拓展性： SD-900M标配直径50 mm的高纯金靶材，并兼容银、铂等多种靶材更换使用。这使其不仅适用于常规的金膜导电处理，也能根据不同研究需求镀覆银或铂等特殊金属膜层，满足不同材料体系的样品制备要求。此外，设备能够在20 Pa–8 Pa范围内调节工作气压，内置精密气体流量控制系统，确保不同气压下均可得到稳定的等离子体和一致的镀膜效果。无论是对热敏材料进行低温镀膜，还是对大尺寸、多孔样品进行全表面均匀镀膜，SD-900M都表现出适配性强的灵活性能。