磁控溅射镀膜是典型物理气相沉积方法，利用高能离子轰击靶材使粒子沉积成膜，具有沉积速率高、膜层致密附着力强等优点，能精确控制膜厚。在电镜样品制备中，它可解决非导电或弱导电样品电荷积累问题，提升成像质量。华北电力大学电池体系关键材料研发实验室引入VPI公司的SD - 900M磁控溅射镀膜仪与日立扫描电镜联用，构建一体化方案。SD - 900M镀膜均匀、导电效果出色，使扫描电镜成像更稳定可靠，VPI工程师提供周到服务，缩短样品制备和成像等待时间。该实验室利用其镀膜搭配电镜观察电池材料，成像清晰，实现从制备到观察无缝衔接。VPI磁控溅射镀膜仪系列在科研用户群体中建立权威品牌形象，SD - 900M镀膜效果均匀、稳定性高、适配性强、操作简单。SD - 900M专为电镜样品镀膜设计，具有高效磁控溅射、快速真空获取、均匀精细镀层、操作简便集成度高、适配性与拓展性强等优势。它在真空镀膜与电镜观测结合应用中性能卓越，为用户提供高效率、高品质解决方案，推荐作为真空镀膜配套电镜观察的首选设备。