结构设计亮点： SD-900的设计充分考虑了用户在日常使用中的便捷性和可控性。仪器面板配有醒目的真空度指示表和电流表，读数清晰直观，呈现出专业的欧洲仪表风格。控制部分采用一体化微电脑控制，镀膜时间及各功能通过旋钮和按键数字设定并由CPU精确执行。例如，用户可以预先设定溅射时长，到时系统将自动停止溅射并通气释放真空，保证每次重复实验条件一致。前面板设置的精密进气阀允许接入氩气、氮气等作为工作气体，并能细致调节进气流量以稳定等离子体。值得一提的是，石英玻璃真空腔体除了利于观察放电辉光外，其非导电特性还避免了金属腔体可能引入的放电不均匀问题，使溅射等离子体分布更加对称稳定。这些贴心的结构设计使SD-900既易于上手，又具备工业级设备的精密控制能力。

典型应用领域： 凭借上述性能，SD-900广泛服务于材料、电子、物理、生物等领域的实验室镀膜需求。以下是几个典型应用场景：

• 扫描电镜（SEM）样品制备： 对于非导电或电子束敏感样品，SD-900可快速在其表面溅射一层超薄金属导电膜（如Au、Pt），厚度通常几纳米。这层镀膜可以泄放电子束产生的电荷，避免样品表面“充电”导致的成像伪影，同时提高二次电子产率，从而获得清晰的SEM图像。

• 电子器件与新材料研究： 在电子学和材料科学实验中，常需要制备小面积的功能薄膜用于性能测试。SD-900适合沉积各种纯金属薄膜（Au、Ag、Cu等）以及一些金属化合物薄膜（通过溅射过程中通入反应气体可沉积如氮化物等薄膜）。研究人员可用其制备微电子器件的电极、电触点，或为新能源材料涂覆导电层以测量其导电特性。

• 表面改性与小规模镀膜试制： SD-900也用于制备一些特殊功能涂层的样品或进行工艺探索。例如在光学领域，可用其在玻璃基片上溅射一层金属铝膜作为反射镜涂层，或者溅射二氧化钛等材料（需要射频溅射选件）来试制光学膜堆。在耐磨涂层研究中，也可以用SD-900溅射一层钛或铬薄膜在小试样上，以测试其硬度和附着力。这些试制为后续大规模沉积工艺提供了宝贵数据。

VPI SD-900镀膜仪以其高稳定性、易操作和优异的薄膜品质赢得了科研用户的认可。它在物理气相沉积领域为科研人员和工程师提供了一个灵活而可靠的平台，从原理性实验到新材料开发，都发挥着重要作用。借助SD-900等先进设备，真空镀膜技术将在电子、光学、材料等前沿领域持续创造更大的价值。