VPI的真空镀膜设备聚焦磁控溅射等物理气相沉积（PVD）技术，具有抽真空速度快、镀膜环境稳定等突出优势。高真空系列产品支持直流和射频两种溅射模式，可沉积金属、半导体、陶瓷绝缘体等各类薄膜材料，满足不同研究需求。同时，仪器在人性化设计方面表现出色，操作界面友好直观，便于用户快速上手。这些技术和服务方面的优势，使VPI设备成为高校科研用户追求高效薄膜制备的理想选择。

黑龙江科技大学材料科学实验室主要服务于材料学院的教学和科研工作，薄膜材料沉积是其关注的重点方向之一。通过引入VPI的薄膜沉积设备，师生可以在校内自主完成各种功能薄膜（如导电薄膜、光学涂层等）的制备实验，不仅加强相关课程的教学环节，还能为研究项目提供可靠的实验支持。引入设备后，实验室能够在内部完成高质量薄膜沉积，减少对外部设备的依赖，加快科研进程。基于上述需求，黑龙江科大材料团队经过调研考察，最终选择与VPI合作，引进一台高真空双靶磁控溅射镀膜系统（型号SD-650MH）来升级实验室的科研条件。

VPI工程师团队针对本次项目提供了“一站式”现场服务，从前期沟通到最终验收每个环节都精心规划、严格执行。

需求沟通与现场勘察： VPI派出经验丰富的工程师前往黑龙江科大实验室实地安装，按照约定时间，SD-650MH设备安全运抵校园。VPI工程师协同校方工作人员进行开箱验收，小心拆卸包装并检查各部件清单，确保设备运输无损且配件齐全。

根据实验室布局和预先方案，工程师将真空腔体、支架及各模块组件逐一就位安装。团队认真连接了真空泵组、溅射靶枪、电源线缆和控制系统等，确保每个接口稳固可靠。整个装配过程井然有序，用时短且安全规范。

完成硬件安装后，VPI工程师立即对设备进行全面调试。首先对真空系统抽空至极限真空，检验腔体的气密性；随后测试磁控溅射放电，在不同功率下观察等离子体状态并优化气压与功率参数，确保等离子体放电过程稳定可控。经过一系列反复测试和参数优化，设备各项性能指标均达到设计要求。

系统运行稳定后，VPI工程师现场为实验室教师和学生开展操作培训。培训内容涵盖了镀膜系统的原理讲解、软件界面的功能演示、工艺参数的设定方法以及安全规范要点等。工程师手把手指导用户进行开机、靶材更换、真空抽排、溅射沉积等实际操作，使老师、学员亲身实践每个步骤。在互动问答环节，用户的疑问都得到详细解答。经过半天的培训与练习，实验室老师和研究生们已基本掌握设备的使用要领，能够独立完成简单镀膜实验。