VPI（高真空SD-650系列磁控溅射镀膜仪）助力电池储能材料研究 技术案例

电池储能行业发展迅猛，追求更高能量密度、更长循环寿命和更高安全性能依赖电池新材料创新，复合膜材料应用及降低材料密度优化电池性能成研究热点，但降低密度面临薄膜强度或附着力下降挑战。Vision Precision Instruments（VPI）自2004年成立，为全球超3000家高校、科研机构和企业提供真空镀膜解决方案，其高真空镀膜设备有超高真空腔体、薄膜均匀性控制、材料兼容性强、多源蒸发能力、离子辅助沉积、多源多工艺集成、精密控制与安全等特点。东北某工业大学新能源材料研究团队用VPI高真空镀膜设备开展电池电极复合膜降密度研究，通过多靶溅射共沉积、离子辅助提升致密度、优化工艺参数与模拟指导、机械旋转与基片架改进等工艺优化，成功制备出低密度复合电极薄膜，降低了密度，提升了电化学性能、膜层质量与附着力。VPI高真空镀膜技术在电池储能材料研发中优势独特，可制备高品质薄膜，设备多功能一体化、智能化和定制化，且有广泛应用验证。

VPI真空镀膜技术 应用案例白皮书

VPI是专注材料科学样品制备和真空镀膜系统的高科技企业，为全球多家高校、科研机构和企业提供真空镀膜设备与解决方案。某高校科研团队需在特殊基底上制备微米级厚度的某导电性极好的贵金属纯薄膜，但面临附着力不足、膜层氧化变色和厚度不均匀三大难题。VPI团队制定专项技术攻关计划，提出定制化解决方案，包括升级靶材尺寸与功率密度、采用旋转柱状样品台、优化工艺参数防氧化等。经理论计算与实验验证，该方案有效解决问题。技术分析表明，方案基于溅射工艺理论和实践经验，从多环节优化。实施后科研团队获高质量厚膜，膜层质量、附着力和稳定性提升，性能满足应用需求，客户满意度高，巩固了双方合作。此案例展示了VPI在高难度薄膜制备任务中的实力和服务水准，其产品体系完善，能满足不同需求。

电池革命：VPI高真空磁控溅射系列镀膜仪为新能源材料增添动力

近年来新能源技术蓬勃发展，新型电池材料研发至关重要，高质量薄膜电极和功能镀膜涂层可提升电池性能，磁控溅射等高真空镀膜技术成为新能源材料制备利器。VPI推出的SD - 650系列高真空磁控溅射镀膜仪为新能源材料研发注入动力，其技术特点包括超高真空与高效抽真空系统、单靶/双靶及多靶磁控溅射源、多种溅射功率供应、精密真空与气路控制、先进控制界面与安全保障、镀膜均匀性与薄膜质量好、紧凑设计与易用性等。该镀膜仪在新能源电池材料制备中有独特优势，可用于薄膜电极、电解质/界面功能层、导电薄膜与集流体改性制备，广泛适用于新能源领域前沿研究。目前全国数十家高校和科研机构使用该系列设备，VPI还与企业合作，其SD - 650系列助力新能源电池材料研发和产业化，推动新能源技术进步变革，VPI将持续创新与各界共创能源技术未来

相同材料下，磁控溅射镀膜仪 VS 热蒸发镀膜仪，哪种方案适合我？

磁控溅射和热蒸发是物理气相沉积领域常用的薄膜制备技术，在半导体和光学领域各有所长。李工结合VPI公司的SD - 650MH磁控溅射镀膜仪和SD - 100AF高真空热蒸发镀膜仪分析两者不同及选择方法。磁控溅射利用高能离子轰击靶材形成薄膜，薄膜质量高、致密性和附着力强，适合高熔点材料及合金化合物，VPI的SD - 650MH适用于高精度应用；热蒸发通过高温加热材料气化凝结成膜，工艺简单、沉积速度快、成本低，适合单一常规金属膜，VPI的SD - 100AF适合实验室快速试制。在半导体领域，磁控溅射是现代芯片制造主流，热蒸发用于实验室器件原型电极快速制备；光学领域，热蒸发适用于大批量低成本元件，磁控溅射用于高性能元件。若要求薄膜致密度高、附着力强选磁控溅射，追求快速镀膜和成本效益选热蒸发，敏感样品需分别讨论。科研人员和工程师应依实际需求选合适镀膜技术，VPI相关设备已成功应用，可联系技术应用工程师。